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多晶硅鑄錠爐擴容后的安全性分析及安全措施研究

本文針對目前主流的多晶硅鑄錠爐裝爐量與設備安全性進行分析，通過強度變形量計算及熱力學分析與目前的各種安全措施進行比較，從而提出比較理想的安全改進措施。

退火處理對La0.6Sr0.4MnO3/Fe-Ni 復合物吸波性能的影響

采用溶膠- 凝膠法制備La0.6Sr0.4MnO3，真空球磨法制備FeNi3 合金，將FeNi3 合金與La0.6Sr0.4MnO3按比例混合進行真空球磨復合，后對復合樣品進行退火。

中間層類型對類金剛石涂層鍵合結構和性能的影響行為

射頻磁控濺射法ZnO薄膜制備工藝的優(yōu)化

在采用射頻磁控濺射在Si 和玻璃襯底上制備單層ZnO 薄膜時，薄膜會受到濺射功率、襯底溫度、氧氬比以及工作氣壓等的影響。本文中將詳細討論這些因素對ZnO薄膜晶體質量，應力以及光學性能的影響。

基于分子蒸餾原理的金屬銫提純實驗系統(tǒng)研制

為了研究分子蒸餾方法對金屬銫內雜質元素的去除性能，研制了一套基于分子蒸餾原理的金屬銫提純系統(tǒng)—刮膜式分子蒸餾系統(tǒng)，開展金屬銫提純實驗研究。

新型節(jié)能玻璃真空鍍膜機將在建筑行業(yè)發(fā)揮巨大功效

低輻射玻璃與多功能鍍膜玻璃又稱保溫玻璃，具有最大的日光透射率和最小的反射系數(shù)，提高了能量利用率，在采暖建筑中可起到保溫與節(jié)能的作用。

國內首臺大直徑盾構機用真空吸盤在鐵建重工研制成功

盾構機用大噸位真空吸盤在鐵建重工試制成功并通過廠內驗收，得到客戶的認可，成為國內首臺具有自主知識產(chǎn)權的大直徑盾構機用真空吸盤，填補了國內主機企業(yè)自制管片真空吸盤的空白。

真空管道交通 - 人類交通困境的有效解決途徑

技術分析與科學研究表明，真空管道高速磁浮交通具有獨特的優(yōu)良性能，可望從根本上解決交通運輸所面臨的一系列問題。

提高含硅納米晶LED亮度的方法研究

本文研究了Si-nc濃度、襯底材料的電阻率、Si-nc與不同基體之間的界面勢壘、場效應、電致表面等離子體等方法對硅納米晶的電致發(fā)光強度的影響。

真空感應熔煉技術的發(fā)展及趨勢

介紹了真空感應熔煉技術的發(fā)展過程以及感應冶煉技術在不同場合的應用。針對不同真空感應爐爐型的結構，比較各自優(yōu)劣勢。展望未來真空感應爐的發(fā)展方向，闡述其發(fā)展趨勢。

氧分壓對直流磁控濺射IGZO薄膜特性的影響

本文采用直流磁控濺射技術，在室溫下通過改變氧分壓的工藝條件制備了IGZO 薄膜，系統(tǒng)性的分析了氧分壓對薄膜的物相結構、表面形貌、元素結合能及電學與光學等特性的影響。

真空條件下硫蒸氣的從頭算分子動力學模擬

本文對硫在高溫、真空下可能發(fā)生的反應進行了熱力學計算，同時采用DFT的從頭算分子動力學方法對硫原子團簇進行動力學模擬，得到模擬前后硫原子團簇的結構和穩(wěn)定性的變化，并進一步計算得到S2分子在高溫、真空下的蒸

從iphone6s玫瑰金看真空電鍍手機市場

真空電鍍是一種物理沉積現(xiàn)象。即在真空狀態(tài)下注入氬氣，氬氣樁基靶材，靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。本文從從iphone6s玫瑰金看真空電鍍手機市場的發(fā)展情況。

PVD鍍膜能夠鍍出的膜層的顏色種類

PVD鍍膜目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。

硬質涂層的發(fā)展、現(xiàn)狀及未來

未來隨著工業(yè)需求的不斷增加，對硬質涂層的要求也將愈發(fā)嚴格。未來的涂層將有兩大趨勢：超硬涂層和低摩擦系數(shù)涂層。

眼鏡鍍膜有什么好處？

眼鏡鍍膜有什么好處？本文講述了眼鏡鍍膜的優(yōu)缺點及作用。

盤點玻璃手機鏡片的分類與制作工藝

本文講述了玻璃手機鏡片常用制作工藝及分類相關的知識。

42CrMo鋼空氣離子氮氧共滲研究

本研究探索普通空氣是否可作為離子氮氧共滲的氧氣源，并系統(tǒng)研究不同空氣流量對42CrMo鋼離子氮氧共滲復合滲層組織與性能的影響，探討離子氮氧共滲復合處理機理

化學氣相沉積/原子層沉積銅前驅體的研究進展

本文介紹了利用化學氣相沉積技術與原子層沉積技術沉積銅薄膜工藝的研究；概述了應用所述前驅體進行銅薄膜沉積的參數(shù)及所制備銅薄膜的導電性能。

真空斷路器真空度與電場電位關系研究

本文借助于有限元分析軟件ANSYS對不同壓強下的真空斷路器滅弧室屏蔽罩及其周圍電場進行仿真分析，并通過模擬滅弧室真空測量實驗對分析結果進行驗證，借此探索出真空斷路器滅弧室內真空度與滅弧室外電場電位間的對應