真空鍍膜
推薦電鍍污水中有機污染物去除工藝
電鍍廢水中的有機污染物來源主要有3個方面：鍍前處理、電鍍過程和鍍后處理。污水中有機污染物的3種去除方法：生化法、微波化學法和物化法。
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多孔ZnO 薄膜結構與光學性能研究
采用sol- gel提拉法，以聚乙二醇(PEG2000)為模板劑，醋酸鋅為前驅體，乙醇為溶劑，二乙醇胺為絡合劑，在玻璃基片上生長了多孔ZnO 薄膜，利用SEM和紫外分光光度計分析了多ZnO 薄膜的表面形貌和光學性質。
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鍍膜設備真空系統(tǒng)主泵的配置
真空系統(tǒng)是真空鍍膜設備的主要組成部分，其主泵的選擇對真空性能影響很大，真空鍍膜設備的發(fā)展要求真空性能清潔無油，動態(tài)抽速大.傳統(tǒng)的以油擴散泵為主泵的設備不能滿足要求.
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物理氣相沉積(PVD)技術
物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)技術表示在真空條件下，采用物理方法，將材料源——固體或液體表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體(或等離子體)過程，在基體表面沉積具有某種特
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AlN在α-Al2O3(0001)表面吸附過程的理論研究
采用基于密度泛函理論的平面波超軟贗勢法,對α2Al2O3 (0001)表面吸附AlN進行了動力學模擬計算,研究了AlN分子在a2Al2O3 (0001) 表面吸附成鍵過程、吸附能量與成鍵方位
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退火溫度對(La2/3Ba1/3)(Cu0.15Mn0.85)O3薄膜微結構和磁性質的影響
利用射頻磁控濺射法結合后期退火處理,在Si (100) 基片上制備了一系列的(La2/3Ba1/3) (Cu0.15Mn0.85 )O3(LBCMO)薄膜。
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