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真空鍍膜

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推薦電鍍污水中有機污染物去除工藝

電鍍廢水中的有機污染物來源主要有3個方面：鍍前處理、電鍍過程和鍍后處理。污水中有機污染物的3種去除方法：生化法、微波化學(xué)法和物化法。

真空鍍膜設(shè)備維修保養(yǎng)的技巧

如何保養(yǎng)真空鍍膜設(shè)備？真空鍍膜設(shè)備維修保養(yǎng)又有什么技巧呢？今天小編與你分享如何對真空鍍膜設(shè)備進行維修保養(yǎng)以及保養(yǎng)過程中的三大技巧。
帶鋼真空鍍膜主要性能

以表面技術(shù)來發(fā)展新型帶鋼材料，主要依賴技術(shù)創(chuàng)新。
如何選擇真空鍍膜設(shè)備供應(yīng)商？

在如此眾多的真空鍍膜設(shè)備制造商中如何選擇一個適合自己的供應(yīng)商和真空鍍膜設(shè)備廠家呢？本文教你幾種識別真正合適你的真空鍍膜設(shè)備供應(yīng)商的方法。
真空鍍膜機真空泵的保養(yǎng)維護方法

針對真空鍍膜機真空泵使用過程中出現(xiàn)的一些問題，真空鍍膜機維修專家總結(jié)出了以下關(guān)于真空鍍膜機真空泵的日常保養(yǎng)以及維護方法。
真空鍍膜設(shè)備長時間運行后的維護要點

如果真空鍍膜設(shè)備連續(xù)使用6個月以上，真空鍍膜設(shè)備的抽速將會明顯變慢，要如何去維護呢？本文簡明扼要的講述了真空鍍膜設(shè)備長時間運行后的維護要點。
真空鍍膜機精抽太慢的幾個原因

真空鍍膜機精抽太慢的原因很多，本文總結(jié)了4個導(dǎo)致真空鍍膜機精抽太慢的主要原因。
真空鍍膜機對焊接的要求

真空鍍膜機對焊接的要求是什么？真空鍍膜機對焊接有什么要求？本文分6點詳述了真空鍍膜機對焊接的要求。
塑料在真空鍍膜前為何要涂層？

大多數(shù)塑料在真空鍍膜之前，一般先要涂覆底涂層，本文講述了塑料在真空鍍膜前為什么要涂層的原因。
真空鍍膜機如何除濕？

真空鍍膜機如何除濕？本文講述了真空鍍膜機除濕的有效方法。
如何正確維護真空蒸發(fā)鍍膜機？

如何正確維護真空蒸發(fā)鍍膜機？真空蒸發(fā)鍍膜機的正確維護方法。
真空鍍膜電化學(xué)清洗知識

電化學(xué)清洗是在真空鍍膜生產(chǎn)線上常用的一種表面凈化方法，分為兩種，一種是點解侵蝕，一種是電化學(xué)拋光。
不同改性過程對氧化鋅薄膜的光學(xué)及親水性能的影響

本文使用月桂酸鈉、硅烷偶聯(lián)劑及其并用體系對氧化鋅薄膜進行改性，測試了改性劑對ZnO薄膜材料的光學(xué)性能、親水疏水性能的影響，并討論了改性劑對納米ZnO薄膜性能的影響機制。
TiN/TiCrN/TiCrAlN復(fù)合薄膜膜基結(jié)合力測定與分析

本研究以多弧離子鍍制備的TiN/TiCrN/TiCrAlN 復(fù)合薄膜為對象，根據(jù)劃痕儀所收集的聲信號數(shù)據(jù)、摩擦力數(shù)據(jù)、摩擦系數(shù)數(shù)據(jù)，在金相顯微鏡下觀察分析劃痕形貌來綜合判定膜基結(jié)合力，為膜基結(jié)合力的判定提供一個準確可信
單晶高溫合金鉻改性鋁化物涂層的高溫氧化行為研究

本文采用化學(xué)氣相沉積技術(shù)在鎳基單晶高溫合金基體上制備了鉻改性鋁化物涂層，在1050℃高溫氧化條件下，通過Cr-Al涂層的氧化動力學(xué)、相結(jié)構(gòu)、顯微組織和成分等演變規(guī)律系統(tǒng)研究，深入探討Cr-Al涂層的高溫氧化行為，并
脈沖偏壓占空比對復(fù)合離子鍍(Cr，Al)N薄膜結(jié)構(gòu)和力學(xué)性能的影響

本文利用復(fù)合離子鍍在基底上施加直流疊加脈沖偏壓制備(Cr，Al)N薄膜，重點研究占空比對于薄膜微觀結(jié)構(gòu)及力學(xué)性能的影響。
Cr/CrN/Cu-TiN膜的成分與性能研究

對未作化學(xué)刻蝕處理和微納米化刻蝕處理的不銹鋼基體高功率脈沖磁控濺射沉積Cr/CrN/Cu-TiN膜，對試樣成分和性能分析。
原子層沉積氧化鋁包覆層增強五氧化二釩多孔薄膜電化學(xué)循環(huán)穩(wěn)定性

本文是關(guān)于在由溶膠凝膠法制備的V2O5多孔薄膜上沉積Al2O3原子層以改善其循環(huán)穩(wěn)定性的研究。未經(jīng)沉積的薄膜擁有最高的初始放電容量，但50個循環(huán)后衰減嚴重。經(jīng)由不同厚度的Al2O3原子層沉積后，V2O5膜的循環(huán)穩(wěn)定性均有
真空鍍膜制備太陽能熱吸收涂層

本文介紹了選擇性太陽能熱吸收涂層的制備方法及發(fā)展?fàn)顩r，重點描述了真空鍍膜在金屬卷材上制備選擇性太陽能熱吸收涂層。
真空鍍膜機比較片機構(gòu)性能和強度的優(yōu)化設(shè)計

分析現(xiàn)有光學(xué)真空鍍膜機比較片機構(gòu)在使用過程中存在的問題。根據(jù)現(xiàn)代光學(xué)真空鍍膜機的發(fā)展趨勢和實際生產(chǎn)中急需解決的問題，通過多方面的研究分析，優(yōu)化設(shè)計新一代的鍍膜機比較片結(jié)構(gòu)，解決影響光學(xué)薄膜質(zhì)量和超多層
石墨靶和鈦靶共濺射制備的TiCN薄膜的結(jié)構(gòu)和性能

采用四川大學(xué)研發(fā)的RZP-800中頻反應(yīng)磁控濺射鍍膜機，利用石墨靶作為碳源，代替CH4或C2H2，在氮氣和氬氣的混合氣氛下通過共濺射石墨靶與鈦靶制備TiCN 薄膜，并對該制備方法下獲得的TiCN薄膜的成分、結(jié)構(gòu)、硬度和結(jié)合